Tecnología láser patentada de nano- y micro-estructuración de silicio por plasma inducido por láser

Una universidad andaluza ha desarrollado una nueva técnica para obtener múltiples efectos de nanoestructuración de silicio sin necesidad de pulsos láser de femtosegundo de alta potencia o condiciones experimentales particulares, como atmósfera controlada o configuraciones específicas de interferencia de haces múltiples. El plasma se utiliza como medio óptico eficaz para la nanoestructuración láser de superficies de silicio. La universidad busca socios con el fin de continuar con el desarrollo de la tecnología y establecer acuerdos de licencia, cooperación técnica o comercialización con asistencia técnica.

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